酸素投与する器具は多数ありますが、その違いについて説明していきます。流量による違いで高流量システムと低流量システムとに分類されます。
高流量システム
成人の１回の換気量は約５００mlで吸気時間は１秒とされます。１分間の間（＝６０秒）にどのタイミングの１秒間の吸気でもその５００mlの空気を供給するためには
５００ml✖️６０秒＝３０００００ml（＝３０L）の空気が必要となります。その３０L以上を安定して設定した酸素濃度を提供することのできるものを高流量システムと言います。
低流量システム
低流量システムでは換気量が供給される酸素量を超えるため超えた分は外気を吸うことになるため設定した酸素濃度よりも少なく吸っている可能性があります。
高流量システムの例
①ベンチュリーマスク
ベンチュリーマスクはダイリューターと酸素流量を組み合わせることで２４％−５０％の範囲で酸素濃度を設定することができます。
②酸素濃度調節のできるネブライザー（インスピロンネブライザーなど）
ベンチュリーマスクに加湿機能が加わったものになります。酸素濃度とそれに必要な酸素流量は一覧表がありそれをもとに決めていきます。
例として３５％の濃度を投与したければ６L以上の酸素流量が必要で、４０％以上の濃度の酸素を投与したければ８L以上の酸素流量が必要となります。
低流量システムの例
①鼻用カニューレ
酸素投与できる流量は４Lまでですが簡便で、使用しながら食事を摂ったりすることもできます。
②フェイスマスク
酸素投与できる流量は５−８Lとされ、４L以下ではマスク内に貯留した自身の呼気のCO2を再呼吸してしますため５L以上は必要とされます。
③リザーバーマスク
フェイスマスクにリザーバーが付いており、そのリザーバーに酸素を溜めて吸気時にその酸素を吸うことで高濃度の酸素投与が可能となります。フェイスマスクでは酸素濃度が足りない時に使用されます。
そのほかのものとして
HFT（ハイフローセラピー：ネーザルハイフローなど）
鼻カニューレで高濃度の酸素投与ができるシステム。高流量システムとして３０L以上に設定する必要があります。
高流量システムでありながら、飲食もできることや少量のPEEPもかけることができるとされ、そういったメリットがあります。
オキシマスク
フェイスマスクに大きな開口部があることが特徴で１Lといった低流量でもCO2が貯留しないものです。特殊な形状で酸素を流出させるため酸素濃度は維持されるとのことです。ただし位置がズレると外気を吸いやすくなってしまいます。
まとめ
酸素投与器具と高流量、低流量システムについて説明してきました。酸素投与は医師の指示によって行われるものではありますが、看護師がそれぞれの酸素投与方法による違い理解しておくことはとても大切なことです。違いを知って適切な方法で酸素投与ができるように
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